在白光干涉三维形貌计量领域,ZYGO 的 CSI 相干扫描方案长期作为主流选型,但其原生大视场架构存在固有局限:大视场模块属于专用配套组件,与常规高 NA(Numerical Aperture)高倍干涉物镜适配性差,倍率切换时齐焦(Parfocal)、光程匹配难度高,大面积检测高度依赖图像拼接(Image Stitching),拼接误差、检测时效、视场边缘干涉信号衰减是产线检测常见痛点。
本次德国 Large Field-of-View 大视场光学方案,跳出原有 CSI 配套光路的设计框架,采用一体化远心共光路干涉补偿架构,在光学链路内完成全视场像差、光程差同步校正,不绑定专属大视场物镜。同一台主机物镜转塔可自由切换低倍大视场镜头与 10X、20X、50X、100X 等高倍干涉物镜,切换后齐焦稳定,垂直测量保持亚纳米量级稳定性,测量结果符合 ISO 12780 表面形貌计量规范,兼顾大面积宏观全域表征与微观局部细节观测。
该方案的核心价值,在于摆脱了对 ZYGO 原生大视场配套体系的依赖。原生单帧大视场成像减少大量拼接步骤,直接完成整片晶圆、光学窗口、高频 PCB 线路、骨科植入基材的形貌初筛,批量检测效率显著提升。针对弱反射、薄膜结构、陡峭侧壁等复杂样品,干涉信号鲁棒性更强,对环境气流、振动扰动的抗干扰能力更优,降低产线测量漂移风险。
它为精密三维形貌检测给予了独立成熟的技术路线,给半导体封装、超精密光学、医疗植入件、精密模具实验室与产线计量给予更多选型空间,实现大视场、高倍率、纳米精度三者的统一。
德国 WLI 大视场技术核心优势

WLI 大视场 3D 白光干涉仪有效弥补传统干涉仪视场范围有限、缺少原生低倍物镜的行业短板,兼顾大视野观测能力与纳米级测量精度。设备可一体化完成工件三维形貌表征、几何尺寸检测、微观缺陷识别分析,适配半导体、精密光学、超精密加工行业的质量管控与科研测量需求。
WLI 1000 系列参数取自设备官方白皮书及公开招标技术资料;ZYGO 各机型参数来源于原厂技术手册、官方产品公示及政府采购公开文件,全部技术数据均可公开溯源。

大视场与高精度一体化测量能力


设备配置专属 0.6× 大视场物镜,突破行业传统设备 1× 倍率起步的限制,原厂标定最大成像视场可达 15.5mm。依托一体化电动转台架构,实现大视场宏观观测与纳米级微观测量的无缝切换,无需拆装镜头或者更换设备,大幅提升批量样品检测效率,保障多组测试数据的一致性。

设备可稳定完成 14mm 端面平面度高精度检测,具备 0.006nm 级超高粗糙度检测性能,能够精准解析 Ra、Rz 等关键表面粗糙度指标,满足超精密器件严苛的纳米量级测量要求。

工业场景核心应用价值

光学镜头若 PV/RMS 面形参数不达标,会造成光路发生偏移,直接导致焦距、成像视场、分辨率等核心光学参数失效,造成镜头整体性能报废。
在半导体 CMP 工艺环节,研磨碟盘金刚石颗粒共面度、金刚石出露高度的一致性,会直接影响抛光工艺效果,决定晶圆成品良率以及耗材的实际使用寿命。
k8com官网半导体|专业白光干涉 3D 轮廓测量方案。亚纳米精度保障,支持自动化定制;高端系列对标国际一线品牌,大视野设计,轻松应对高低反射、复杂材料测量场景。
免责声明(Disclaimer)
一、内容溯源与适用范围(Source & Scope of Application)
本文全部技术参数、结构原理、机型适配及对比数据,均源自设备原厂官方资料、权威标准文献及公开招标验收文件,仅用于技术研究、方案对比及行业参考,不作任何商业用途。
二、内容效力与权责界定(Validity & Liability Definition)
本文观点与结论为通用技术参考,非设备原厂官方定论,不构成任何商业承诺、履约标准及验收依据,未经原厂实测核验,不得用于项目验收、举证追责。
三、风险承担与合规说明(Risk Assumption & Compliance Statement)
使用者擅自套用、篡改本文内容产生的一切风险与法律责任,由使用者自行承担,本文作者及所属单位不承担任何连带责任。若存在版权及侵权异议,将及时核实整改。